细粉加工设备(20-400目)
我公司自主研发的MTW欧版磨、LM立式磨等细粉加工设备,拥有多项国家专利,能够将石灰石、方解石、碳酸钙、重晶石、石膏、膨润土等物料研磨至20-400目,是您在电厂脱硫、煤粉制备、重钙加工等工业制粉领域的得力助手。
超细粉加工设备(400-3250目)
LUM超细立磨、MW环辊微粉磨吸收现代工业磨粉技术,专注于400-3250目范围内超细粉磨加工,细度可调可控,突破超细粉加工产能瓶颈,是超细粉加工领域粉磨装备的良好选择。
粗粉加工设备(0-3MM)
兼具磨粉机和破碎机性能优势,产量高、破碎比大、成品率高,在粗粉加工方面成绩斐然。
多晶硅粉碎污染杂质纯度

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多晶硅系列专题(一):基础知识
2024年4月11日 1、按纯度要求及用途分类:冶金级多晶硅、太阳能级多晶硅和电子级多晶硅 冶金级多晶硅,一般含硅量为99999%~999999%(5N6N),主要应用包括航空、尖摘要: 多晶硅中杂质的组成及含量是衡量多晶硅产品质量的重要指标之一 , 由于其杂质组成复杂、 含量低于常规检测方法检出限, 这就使对多晶硅中杂质含量、 分布及检测方法的 多晶硅中杂质含量分布及其检测方法的探讨百度文库通过有效的废硅粉回收再利用工艺,不仅可以减少资源的浪费和环境的污染,还可以实现资源的循环利用,推动多晶硅产业向更加环保和可持续的方向发展。多晶硅生产过程中废硅粉回收再利用工艺百度文库多晶硅表面金属杂质含量的高低对单晶硅的制备以及电池片的转化效率有着密切的关系,因而严格控制多晶硅的表面金属杂质含量对多晶硅的品质提升有着至关重要的影响从多晶硅 浅析多晶硅生产过程中表面金属杂质的来源 百度学术

浅析多晶硅生产过程中表面金属杂质的来源 道客巴巴
2016年12月15日 从多晶硅生产过程中的工艺气体的纯度、与硅接触材料的纯度、环境的洁净度以及包装材料的纯度等四个方面阐述了影响多晶硅表面金属含量的引入源,并给出 2017年6月27日 我们报告了一个关于高性能多晶硅中杂质的国家项目的结果:污染源、传输路线、与晶体缺陷的相互作用以及对太阳能电池效率参数的影响。 在实验室规模的熔炉 高性能多晶硅中的杂质控制,Physica Status Solidi (A) X 2018年8月7日 摘要:多晶硅产品作为高纯原料的一类,可以进行半导体收音机材料的制造,因此必须对碳含量进行严格控制,如若无法对碳杂质进行合理去除,将会对后续生产 多晶硅中碳杂质的来源及控制方法研究 qikann型多晶硅的纯度标准主要包括杂质浓度、晶格缺陷、晶界优化等多个方面。 杂质浓度是影响n型多晶硅性能的关键因素之一。 通常情况下,n型多晶硅的杂质浓度应控制在ppb(十 n型多晶硅纯度标准百度文库
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多晶硅生产流程上海奕卿过滤科技
2020年7月22日 多晶硅生产中所遇见的污染物及杂质颗粒: 1未完全反应的硅粉颗粒; 2循环液带入的管道中的杂质; 3进料带入的固体粉尘与杂质; 4合成反应生成的固体杂 2024年5月3日 电子级多晶硅是指纯度在9N(硅含量99%)以上的多晶硅产品,是制造硅抛光片、太阳能电池及高纯硅制品的主要原料 与进一步加工,但其过大的表面积使得其在生产加工的过程中与空气接触较为频繁,易受到污染,一般情况下纯度 多晶硅行业前景展望 多晶硅定位:晶硅光伏产业链中最重要的 2018年6月4日 相对于太阳能级多晶硅999999%纯度,电子级多晶硅的纯度要求达到99%。5000吨的电子级多晶硅中总的杂质含量相当于一枚1 元硬币的重量。作为集成电路行业的“基石”,电子级多晶硅一直都是国家发展集成电路产业的战略原材料。在此 99%纯度的电子级多晶硅,你知道多少?2018年6月7日 相对于太阳能级多晶硅999999%纯度,电子级多晶硅的纯度要求达到99 %。5000吨的电子级多晶硅中总的杂质含量相当于一枚1元硬币的重量。 据徐州发布消息,江苏鑫华半导体材料科技有限公司总经理田新表示,鑫华半导体研发团队历经317 99%纯度的电子级多晶硅,我国也能出口了!

中华人民共和国国家标准
2021年10月9日 65 多晶硅基体金属杂质含量测试按GB/T 37049的规定进行。 66 多晶硅表面金属杂质含量的测试按 GB/T 24582的规定进行。 67 多晶硅导电类型检验按GB/T 1550的规定进行。 68 多晶硅电阻率检验按GB/T 1551的规定进行。 69 多晶硅中氧含量测试按GB/T2011年9月13日 硅光伏电池衬底的杂质含量对电池性能起决定 性作用。合格衬底中,除c、O、H三种杂质外,B、P、Fe、Ca、Ti、m、C、Na等杂质浓度应低于1.0×10一。其他杂质浓度应低于1.0×10一,这种纯度多晶硅 称为太阳能级硅(SOG—Si)。工业金属硅的纯度约为冶金法制备太阳能级多晶硅的原理2010年6月30日 目前B、P杂质去除困难大、成本高,已成为高效晶体硅太阳电池发展的技术阻力。因此,研究多晶硅生产中B、P杂质的去除方法、工艺技术,从而获得低成本、高纯度的多晶硅材料,以保障高效晶体硅太阳电池的高效、可靠、稳定性,具有重要的意义[3]。太阳能级多晶硅中B、P杂质的危害及去除 百度文库2023年5月27日 中国粉体网讯 当前,在光伏多晶硅原料的生产行业中,大多采用的是改良西门子法生产工艺,改良西门子法主要涉及5个环节,提纯以及尾气回收、其他氢化物的分离、硅合成、还原等技术,经过改良之后的方法具备安全性,能够制备高纯度的多晶硅,和其他方法相比,转换率最高。光伏多晶硅料为何需要破碎?如何破碎? 中国粉体网
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多晶硅来料检验及掺硼计算ppt精品ppt 28页 原创力文档
2018年2月21日 原料检验以及多晶硅掺杂计算 一、原料检验 Si3N4 石英坩埚(SiO2) 多晶硅原料 Si3N4 作用 经搅拌喷涂后形成一层隔绝涂层,介于 石英坩埚和硅之间,起到:1)防止液态硅与石英坩埚接触;2)使硅锭与坩埚容易分离 为何选择Si3N4作涂层材料 Si3N4 因为Si3N4具有耐高温、化学稳定性好、耐腐蚀、抗氧化 2023年7月14日 太阳能级多晶硅的纯度为 6~8N,即要求杂质总含量低于10 6,多晶硅的纯度需达到 999999%以上。而电子级多晶硅纯度要求更为严格,最低为9N,目前最高可达 12N。电子级多晶硅生产难度较大,国内掌握电子级多晶硅生产技术的企业较少,仍较为依赖 多晶硅行业研究:产业链、生产、共给、需求分析 知乎2016年12月15日 学术争鸣88016年30期浅析多晶硅生产过程中表面金属杂质的来源杨帅1文学露1新特能源股份有限公司,新疆乌鲁木齐中泰化学阜康能源有限公司,新疆乌鲁木齐摘要:多晶硅表面金属杂质含量的高低对单晶硅的制备以及电池片的转化效率有着密切的关系,因而严格控制多晶硅的表面金属杂质 浅析多晶硅生产过程中表面金属杂质的来源 道客巴巴2014年4月8日 第4章单晶硅材料第5章单晶硅中的杂质和位错主要内容:•硅的基本性质•高纯多晶硅的制备•高纯单晶硅的制备•单晶硅中的杂质•单晶硅中的位错硅材料是目前世界上最主要的元素半导体材料,在半导体工业中广泛应用,是电子工业的基础材料。第4章单晶硅及其杂质和缺陷 豆丁网
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认识半导体VIII——半导体级多晶硅的制备 知乎
2022年9月20日 之后,将粗硅进行提纯,尽可能去除其中的各种杂质,即可获取我们所需的高纯多晶硅。而在这一工序中,采用不同的提纯方法可以得到用于制备硅单晶的电子级高纯多晶硅,也可得到用于生产太阳能电池的太阳能级多晶硅。离子发射光谱法( ICP)和质谱法[12 ]针对多晶硅杂质检测过程中硼杂质各种检测方法的原理各不相同, 因此其应用范 目前用于检测高纯度多晶硅材料中微量杂质 。 2 2 1 杂质检测方法研究进展 国内多晶硅中杂质检测方法研究进展 元素含量的常见手段 多晶硅中杂质含量分布及其检测方法的探讨百度文库2022年12月10日 电子级多晶硅(EGS,Electronic Grade Silicon)一般是指纯度在9N以上的多晶硅产品,主要应用于半导体硅片的生产,应用于电子电力上的硅材料纯度要求 工业硅需求篇之二:多晶硅行业深度梳理 新浪财经2020年2月6日 中国光伏企业经历了坎坷的大起大落的发展,对光伏产业的质疑也未间断,比如说“光伏生产耗能大,污染大,发出来的电还比不上耗电”。这种说法从十余年前起源,流传甚广,所以光伏是清洁能源还是高污染高耗能行业? 我们的结论是: 中国光伏制造业发展之初由于受国外几十年的技术封锁 被骗了?光伏制造:“清洁能源” or “高污染、高耗能”?生产
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多晶硅的生产工艺详解; 知乎专栏
2023年10月31日 电解完成后,需要将阴极置于真空环境,通过熔点的不同可以将Si与阴极材料进行分离,通过这种方法得到的硅的纯度可以达到998%,在很大程度上避免了B、P等杂质对硅的污染,极大地提高了多晶硅的纯度。• 区熔法有水平区熔和悬浮区熔,前者主要用于锗 提纯及生长锗单晶,硅单晶的生长则主要采用悬 浮区熔法,生长过程中不使用坩埚,熔区悬浮于 多晶硅棒和下方生长出的单晶之间 • 区熔法不使用坩埚,污染少,经区熔提纯后生长 的硅单晶纯度较高,含氧量和含第五章 单晶硅的制备及其缺陷和杂质百度文库2018年8月7日 更高的纯度意味着更加复杂的生产和提炼过程,“11个9”的纯度,相当于5000吨的电子级多晶硅中总的杂质含量仅有不到一枚1元硬币的重量。 这使得光伏级多晶硅的生产工艺基本无法起到借鉴作用,难以通过技术升级直接转化为电子级生产线,也就是说需要另起锅炉才能造出满足需求的产品。纯度达99%,芯片制造离不开这种原材料~ 知乎以高纯多晶硅为原料,将多晶硅制 成棒状,垂直固定。 多晶硅棒下端放臵一定晶向的单晶 硅,作为单晶生长的籽晶。 在真空或保护性气体下,利用高频 感应线圈加热多晶硅棒,是多晶硅 棒的部分区域形成熔区,并依靠熔 区的表面张力保持多晶硅的平衡。第4章单晶硅及其杂质和缺陷 百度文库
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多晶硅料行业专题研究:硅料行业迎来品质竞争时
2023年8月29日 2)金属杂质参数:重金属杂质形成的 强复合中心会对电池片的电学性能产生致命的影响,多晶硅自身含有的金属杂质目 前看是影响N型电池片电化学性能的最关键因素,追求纯度更高、金属杂质浓度更 本文将介绍多晶硅片的生产工艺流程,包括原料准备、硅熔炼、晶体生长、 切割和清洗等环节。 一、原料准备 多晶硅片的原料主要是硅石,经过粉碎、磁选等工艺,得到符合要求的硅石粉 末。硅石粉末中的杂质含量需要经过化学分析确定,以保证最终硅片的多晶硅生产工艺流程简图合集百度文库2018年8月7日 所以,必须对多晶硅中的碳杂质进行严密控制。 关键词:多晶硅;碳杂质;控制措施 引言 为了保证多晶硅产品的生产质量,对原材料的纯度有着高标准的要求,碳杂质 也对后续硅产品的电子特性有着直接影响;当碳杂质的含量达到平衡固溶度时 多晶硅中碳杂质的来源及控制方法研究 qikan杨雷,李光辉 同系列资源 资料简介 摘要:硅基太阳光伏组件是应用最广泛、最成熟的发电 多晶硅行业研究:产业链、生产、共给、需求分析 知乎,太阳能级多晶硅的纯度为 6~8N,即要求杂质总含量低于10 6,多晶硅的纯度需达到 999999%以上。多晶硅破碎污染杂质纯度
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多晶硅破碎污染杂质纯度
多晶硅生产工艺 知乎2022年8月31日 通过这种方法得到的硅的纯度可以达到998%,在很大程度上避免了B、P等杂质对硅的污染,极大地提高了多晶硅的纯度 这种制备多晶硅的方式与西门子法相 进一步探索多晶硅研究系列1:三大生产工艺的比较 1多晶硅的 多晶硅生产工艺——最全,供收藏!2021年8月16日 高纯度的单晶硅片是制造各种芯片的基础材料,半导体级硅的纯度极高,通常要达到999%(小数点后面7至9个9,甚至是12个9),且为单晶,即硅原子晶格统一朝向。当然这里所说的纯度一般是仅考虑不含金属杂质的纯度,不包括氧、碳等杂质。怎样把沙子变成99%纯度的芯片原材料硅片2018年3月6日 虽然少于0001%或10ppm,但多晶硅中痕量污染物的量和组成对光伏器件具有深远影响。与半导体行业类似,金属污染控制是提高器件产量和可靠性的关键过程之一,减少太阳能光伏电池中的金属污染使电池效率更高和更长的设备寿命。 单晶硅/多晶硅微量元素单晶硅/多晶硅微量杂质元素ppb测定检测资讯嘉峪检测网2016年6月18日 多晶硅表面存在的微量杂质大大影响下游产品的各种性能,所以在多晶硅的生产过程中,尤其是产品出炉后的各个后续处理过程中,必须尽可能的避免在多晶硅中引入各种杂质,保证多晶硅不被污染。为了摸索多晶硅出炉后的各个处理过程的杂质引入方式,改善多晶硅的表面金属杂质引入探讨 豆丁网

电子级多晶硅金属杂质来源探讨 道客巴巴
2023年8月11日 电子级多晶硅金属杂质来源探讨高召帅,于 跃,谢世鹏,厉忠海,王 培(江苏鑫华半导体材料科技有限公司,保利协鑫旗下,江苏徐州 )摘要:电子级多晶硅金属杂质含量是评价其产品质量的重要指标之一,其杂质含量的高低直接影响影响下游1 多晶硅的装料和熔化 将高纯多晶硅粉碎,清洗表面,装入石英坩 埚中。 酸洗法:冶炼级硅粉碎后用酸洗去金属杂质, 再以真空蒸除水份,提高硅纯度。 鼓泡法:将氯气和氧的混合气体吹入熔硅, 硅中多数金属杂质能与氯反应生成易挥发的 卤化物 第4章单晶硅及其杂质和缺陷 百度文库多晶硅破碎机破碎锤用于多晶硅的破碎,具有耐磨耐用,高纯度等特点,对多晶硅 破碎料无污染,圆弧型牙型,破碎多晶硅效果好,粒度均匀 提高多晶硅纯度,提升多 晶硅粉价值。 碳化钨榔头 多晶硅敲击破碎锤 钨硬质合金榔头钴合金锤 用途:硅料钨钴合金榔头 多晶硅破碎锤头 钨钢锤子阿里巴巴2021年3月26日 第三代改良西门子法是用干法回收还原尾气中的HCl,将解析出的干燥HCl再送回“合成”或“氢化”工艺中继续参与制备三氯氢硅,如此循环往复。这种完全封闭式生成,实现了还原尾气各种成分的全部循环回收利用,不仅做到了污染物质的零排放,而且降低了多晶硅生成的物耗和成本。从多晶硅到单晶硅棒再到晶圆的工艺流程
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原料到成品:硅靶材生产工艺全解析,质量控制的艺术与科学
2024年3月6日 高纯度:硅靶材的纯度通常高达99999%(5N)甚至更高,这对于减少薄膜沉积过程中的杂质污染至关重要。 优异的电子特性:纯净的硅靶材能够提供优良的电导率和最小的电阻率变异性,对于生产高性能的半导体器件是必不可少的。2 多晶硅生产工艺简介 多晶硅产品的主要用途有二种:一种是用于制备太阳能电池;另一种是用于集成电路。二种用途对多晶硅产品的性能参数要求也不尽相同,电子级多晶硅的纯度要求达到9N~11N;而太阳能级电池在保证光电转换效率与寿命的前提下,对多晶硅纯度的要求则没有那么高,大致在6N 多晶硅—生产工艺比较及硅烷法工艺的优势衢州市鼎盛化工 2011年9月13日 硅光伏电池衬底的杂质含量对电池性能起决定 性作用。合格衬底中,除c、O、H三种杂质外,B、P、Fe、Ca、Ti、m、C、Na等杂质浓度应低于1.0×10一。其他杂质浓度应低于1.0×10一,这种纯度多晶硅 称为太阳能级硅(SOG—Si)。工业金属硅的纯度约为冶金法制备太阳能级多晶硅的原理反应室中臵高纯的多晶硅细棒,通电加热至1100℃以上, 通入中间化合物三氯氢硅和高纯氢气,反应得到的高纯硅 沉积在硅棒上。 工艺过程:书88页图410 1 多晶硅的装料和熔化 将高纯多晶硅粉碎,清洗表面,装入石英坩 埚中。第4章单晶硅及其杂质和缺陷 百度文库
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多晶硅纯度的表示方法百度文库
多晶硅纯度的表示方法还需要说明的是,以ppm(百万分之一)表示杂质的含量时,还有ppmw和ppma的分别。 ppmw指的是按重量(质量)计算的浓度,如B是2ppmw,即指在每克硅中有2微克硼;而ppma则指的是原子密度计算的浓度,即每百万个硅原子有几个杂质原子。2023年11月13日 其他杂质多为金属氧化物杂质:CaO、MgO、Al2O3等。 碎硅石的特点是稳定性高、硬度高、纯度 较高、隔热性能好。 应用方面: 一、生产混合水泥: 向水泥中添加碎硅石来提高的抗压强度和流动性; 二、作为耐火材料添加剂: 添加碎硅石起到骨架 专家分享:工业硅生产过程中固废的绿色资源化利用【SMM 2023年2月27日 金属硅粉,但仅在多晶硅生产现场的某些部分,金属硅粉的副产物,如流化床法。 目前,流化床方法是制备多晶硅的主要方法。 它使用硅烷或氯硅烷作为硅原料气,并使用氢气作为载气。 使硅烷进入具有多晶硅籽晶作为流化颗粒的流化床中以裂解硅烷。金属硅粉碎:藏在多晶硅背后的成功“配角” 知乎专栏2024年5月3日 电子级多晶硅是指纯度在9N(硅含量99%)以上的多晶硅产品,是制造硅抛光片、太阳能电池及高纯硅制品的主要原料 与进一步加工,但其过大的表面积使得其在生产加工的过程中与空气接触较为频繁,易受到污染,一般情况下纯度 多晶硅行业前景展望 多晶硅定位:晶硅光伏产业链中最重要的

99%纯度的电子级多晶硅,你知道多少?
2018年6月4日 相对于太阳能级多晶硅999999%纯度,电子级多晶硅的纯度要求达到99%。5000吨的电子级多晶硅中总的杂质含量相当于一枚1 元硬币的重量。作为集成电路行业的“基石”,电子级多晶硅一直都是国家发展集成电路产业的战略原材料。在此 2018年6月7日 相对于太阳能级多晶硅999999%纯度,电子级多晶硅的纯度要求达到99 %。5000吨的电子级多晶硅中总的杂质含量相当于一枚1元硬币的重量。 据徐州发布消息,江苏鑫华半导体材料科技有限公司总经理田新表示,鑫华半导体研发团队历经317 99%纯度的电子级多晶硅,我国也能出口了!2021年10月9日 65 多晶硅基体金属杂质含量测试按GB/T 37049的规定进行。 66 多晶硅表面金属杂质含量的测试按 GB/T 24582的规定进行。 67 多晶硅导电类型检验按GB/T 1550的规定进行。 68 多晶硅电阻率检验按GB/T 1551的规定进行。 69 多晶硅中氧含量测试按GB/T中华人民共和国国家标准2011年9月13日 硅光伏电池衬底的杂质含量对电池性能起决定 性作用。合格衬底中,除c、O、H三种杂质外,B、P、Fe、Ca、Ti、m、C、Na等杂质浓度应低于1.0×10一。其他杂质浓度应低于1.0×10一,这种纯度多晶硅 称为太阳能级硅(SOG—Si)。工业金属硅的纯度约为冶金法制备太阳能级多晶硅的原理
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太阳能级多晶硅中B、P杂质的危害及去除 百度文库
2010年6月30日 目前B、P杂质去除困难大、成本高,已成为高效晶体硅太阳电池发展的技术阻力。因此,研究多晶硅生产中B、P杂质的去除方法、工艺技术,从而获得低成本、高纯度的多晶硅材料,以保障高效晶体硅太阳电池的高效、可靠、稳定性,具有重要的意义[3]。2023年5月27日 中国粉体网讯 当前,在光伏多晶硅原料的生产行业中,大多采用的是改良西门子法生产工艺,改良西门子法主要涉及5个环节,提纯以及尾气回收、其他氢化物的分离、硅合成、还原等技术,经过改良之后的方法具备安全性,能够制备高纯度的多晶硅,和其他方法相比,转换率最高。光伏多晶硅料为何需要破碎?如何破碎? 中国粉体网2018年2月21日 原料检验以及多晶硅掺杂计算 一、原料检验 Si3N4 石英坩埚(SiO2) 多晶硅原料 Si3N4 作用 经搅拌喷涂后形成一层隔绝涂层,介于 石英坩埚和硅之间,起到:1)防止液态硅与石英坩埚接触;2)使硅锭与坩埚容易分离 为何选择Si3N4作涂层材料 Si3N4 因为Si3N4具有耐高温、化学稳定性好、耐腐蚀、抗氧化 多晶硅来料检验及掺硼计算ppt精品ppt 28页 原创力文档2023年7月14日 太阳能级多晶硅的纯度为 6~8N,即要求杂质总含量低于10 6,多晶硅的纯度需达到 999999%以上。而电子级多晶硅纯度要求更为严格,最低为9N,目前最高可达 12N。电子级多晶硅生产难度较大,国内掌握电子级多晶硅生产技术的企业较少,仍较为依赖 多晶硅行业研究:产业链、生产、共给、需求分析 知乎
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